365、建设底层材料 禁出口（1 / 3）

第368章

在忙碌的时候，苏澄也没有忘记一件事情。

那就是极紫外光光刻机的研究，现在真的是进入了高速发展期，要知道前世的阿斯麦也是在12年才投入研究的，出成果也是在之后的几年了。

在此之前，不管是五星还是其他的公司，都是不怎么看好这一块的，当时的国际主流就是，duv，而不是euv。

列个数据：

曝光系统最核心的部件之一是紫外光源。

常见光源分为:

可见光：g线：436nm

紫外光（UV），i线：365nm

深紫外光（DUV），KrF准分子激光：248nm，ArF准分子激光：193nm

极紫外光（EUV），10~15nm

深紫外光的研究可以说最起码在目前5～7年之内都不落后，但是科技的发展是非常快速的。

第四代光刻机，相比较来说差距都不算大，国内努力一下还是可以跟的上国际主流的，但是到了第五代euv，那就完全不一样了。

要知道第五代光刻机那可是需要很多的顶尖材料的，再看一组数据，在前世2011年，国内在全球最关键的 种核心材料中，国内年。

在这种情况下，怎么去制造第五代光刻机？材料领域不突破，就永远受制于人。

前面在苏澄的努力下，各类公司努力一起攻关46种材料，当然虽然现在还没有彻底成型，但是已经过去了2年的时间，成果就在眼前了。

另外在霓虹那边收购或者说是交换了一些技术，这样子就又搞定了39种核心材料。

另外27种核心材料，就在基石半导体的实验室，这一部分基本上有的是难度大的，有的是研究出来的经济效应也比较差的，这一部分都是基石半导体在负责这件事情。