第1153章：帝国集团旗下研发出第一台商用光刻机！（3 / 4）

帝国集团在香江科技城一家科技公司正式研发出一台可以商用的光刻机。

这意味着什么？

可想而知。

从八十年代初开始，杨铭在香江北部成立科技城，就是布局半导体产业链的，除了成立香江集成电路制造公司外。

像光刻机这些，杨铭也早已让人成立。

这些年，除了东洋，欧美，香江本地的人才加入外，还有这两年苏连方面的人才加入。

如今几年时间过去，第一台光刻机终于研发出来。

当然，现在的光刻机和未来三四十年后的光刻机相比，其实复杂程度还要简单太多了。

就国内方面来说，早在1965年，z国科学院便研制出了65型接触式光刻机。

如果不考虑性能上的差距，m国第一台接触式光刻机是由gca公司于1961年制造的，彼此间只差了4年。

彼时的z国人憋着一股“超英赶美”的志气，从不服输。在这种信念的支撑下，z国光刻机技术进入了一段蓬勃辉煌的独立自主发展期。

70年代初期，z国科学院开始研究计算机辅助光刻掩模工艺；

1977年，我国成功研制gk-3型半自动光刻机。

1980年，箐华大学在第四代分步式投影光刻机技术研究上取得成功，光刻精度达3微米，接近国际主流水平。

1982年，中科院109厂研制出第一台kha-75-1型光刻机，与世界尖端水平差距缩短到5年内。

1985年，国内新型分步式光刻机试验机通过验收，经专家鉴定，其性能逼近m国光刻机巨头gca公司4800dsw型光刻机的水平。

值得一提的是，这是z国第一台分步投影式光刻机，虽不像一些资料中描述的那般“领先世界”，但它却让国内在光刻机领域紧紧咬住了世界第一梯队的步伐，与顶端的差距最多只有七八年。

至此，z国光刻机技术发展史已然抵达顶点，但谁又能想到，它竟也成了一个辉煌时代的落幕？

随着大开放的深入，z国以积极的姿态融入世界，扑面而来的巨大机遇中也夹藏着许多“甜蜜的毒药”。

上世纪七八十年代，z国和m国度过了一段“蜜月期”，大到先进武器，小到各种民用产品，只要钱到位都不再是触不可及的奢望。