第一百六十章 第一台光刻机（1 / 5）

第161章第一台光刻机

半导体产业链的投入将会是非常庞大的，虽然徐申学不考虑，也不可能所有事情都自己做，但是光是牵个头，做一做光刻机，蚀刻机，离子注入机这些半导体整合设备的花费就不是个小数目。

至于真正的大后期，那可能就是涉及到整个工业底层体系的庞大命题……徐申学肯定是要让智云科技这个主要经营实体，然后再拉上一大堆国内相关企业、机构一起做的。

毕竟这种事就不是一个人，乃至一个企业能够单独搞定的。

而现阶段徐申学要做的是？智云科技要做的是什么？说起来其实也很简单，徐申学想要先开个头，打个样……比如说先利用国内比较成熟的技术基础，把DUV干式光刻机给弄出来。

这个过程里利用智云科技的庞大的资金以及产业链事业，先把这个DUV干式光刻机进行产业化，继而带动半导体制造设备以及原料的一系列产业链。

简单来说就是把光刻机领域先产业化，产生实际的经济效益，进而带动一整个产业链的持续进步。

整个模式，其实和做智能手机，然后带动整个智能手机产业链，本质上其实差不多……

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当下的DUV干式光刻机还是很有市场的，因为这种光刻机主要用于65-130纳米的超大规模集成电路或者说芯片制造，而当下一大堆二流手机的芯片都还在采用六十五纳米工艺呢，比如S9手机采用的MSM8X50芯片，其实就是六十五纳米工艺……

8X50芯片的性能在当下，依旧是足以进入前五。

而六十五纳米的支撑，是可以使用DUV干式光刻机制造的再往下的各种内存以及其他类型的芯片，也是使用六十五纳米到一百三十纳米之间的工艺制造的。

这种级别的制程工艺，别说在当下了，就算是到了十几年后，依旧有相当大一部分市场。

这意味着DUV干式光刻机在十几年后依旧有市场……海湾科技搞DUV干式光刻机，市场前景还是有不小的。

海湾科技也不仅仅有比较先进的DUV干式光刻机项目，其实也有看似更落后，用248纳米波长光源，最低制程可以做到一百三十纳米工艺的KRF光刻机。

甚至连波长365纳米，最低制程只有三百五十纳米的i-line'光刻机项目都有。

因为哪怕到了二十年代中期了，更低技术KRF光刻机，甚至i-line光刻机依旧有着广泛的市场需求和价值！22年的荷兰ASML光刻机出货上，最顶级的EUV光刻机是四十台，ARFI（DUV浸润式）是八十一台，ARF(DUV干式)二十八台。

然后看似已经落后的第三代KRF光刻机，出货量则是惊人的一百五十一台。

甚至第二代的I-line光刻机，出货量都有四十五台。