第二百七十一章 成功了！光刻工厂实现了！（2 / 7）

想要制造出3纳米芯片，3纳米极紫外光、3纳米芯片电路设计、3纳米曝光波长光刻胶缺一不可，这也是为什么，芯片纳米等级推进缓慢的原因。

每推进一步，都需要各行业跟进，一旦说光刻胶不行，那有极紫外光和电路设计图也没用。

正因为技术门槛高，大洋彼岸才能用芯片做文章。

“总裁说得没错。”林天也给予了肯定，他回头看向两位局长道：“现在说3纳米芯片还为时过早，不过我们可以先试试这13.5纳米波长的极紫外光，看看它能不能满足芯片生产需求。”

“这句话在理。”

“确实是我们操之过急了。”

雷兵和夏扬点了点头。

他们属于是懂一点，但并不知道半导体芯片领域可不仅仅只有极紫外光，还有n多的细枝末节，只有全部攻克才能造出芯片。

“趁着天没亮，我们尽快测试光束的可行性吧。”陈星提醒一句。

他们现在可是关了全深城的电力供应，哪怕是凌晨4点钟，但依然会对城市造成影响。

“我马上操作。”

林天点了点头回应道。

刚说完，他立马看向设备操控台，开始输入指令，时不时还跑到一侧去操作。

光刻工厂不同于光刻机，它更像是一条完整的自动化流水线，只需要装填半导体硅片以及光刻胶与配套试剂，输入指令后就可以进行自动化生产。

林天在检验了十几束13.5纳米波长的极紫外光后，也发现了单色性最好的一条光束，将它设定为1号光刻区域。

又经过了十分钟的参数调试，排除外故障情况，林天输入了确定工作的指令。

下一秒。

运输装置自动取片。

存放在特定区域的半导体硅片被静电吸盘吸起，运送到清洗区域，洗掉附着在半导体硅片表面的灰尘和杂质。