第八十二章 时间紧迫，提前囤积零件（2 / 6）

别看这位“林工”年轻，他在光刻领域的成就与造诣，早已经远超在场所有人。

然而。

就在这时。

赶了最近一班飞机，连夜飞回来的冯承铭开口道：“如果用氧化铬做为抗反射层，也能消除大部分的驻波效应？”

“嗯。”

林天点了点头，脱口而出道：“用氧化铬做为抗反射层，厚度20纳米，可以有效解决驻波效应。”

冯承铭：“为什么是20纳米？”

“20纳米的厚度，已经可以解决大部分驻波效应，21纳米，用不上，19纳米不够用。”

林天淡淡回答道。

两人的一问一答，让默默观看的陈星惊叹，红色品质人才果然有点变态啊！

舌战群儒，有问必答。

“刚才说话的那个老头，就是龙芯国际的光刻首席。”曲程压低了几分音量介绍道。

“原来是他。”

陈星忍不住笑了笑，这位老爷子可太传奇了。

吹个牛逼，把一群院士都唬住，如果能证实可以利用多重曝光技术实现14纳米芯片，那他吹的牛也算实现了。

“制造光掩膜版的时间比较漫长，单次流片的时间都要1到3天，我建议陈总还是不要等了，公司可不能没有你。”

曲程提了个醒道。

单次要1到3天，经过林天推算，14纳米芯片掩膜版，一共要经历50次左右流片，才能最终进行封装使用。