第51章 第一轮测试通过，研发成功！（1 / 3）
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基地之中，研究人员依然在继续进行光刻机的测试。
“现在开始进行对准，监视器打开，红外光源打开，进行单面对准。”
“调节显微镜的位置、焦距、放大倍率、CCD的增益，掩膜板图形已经呈现在监视器上，调节硅片位置与掩膜板完全对准。”
“调节成功！”
“现在开始调节真空度，目前真空度为-20PSI，打开开关使硅片与掩膜板紧密接触。”
“选择进行超高精度的曝光，关闭按钮SubstrateVacuum，将显微镜系统归位。”
见到操作都没有问题，楚辞和唐宏等人脸上的表情越发严肃起来，因为接下来就是进行曝光处理了。
“开始曝光处理，汞灯电源打开，电压已经达到最大值。”
“触发汞灯检查风扇是否正确运转，触发成功，电压开始降低，目前电压为54伏。”
“旋钮调节汞灯到需要的功率以及光照度，汞灯为ARC350W，光照度调节为CH-A15mW/cm,CH-B30mW/cm。”
“打开左面板曝光控制电源按钮，开始设定所需的曝光时间。并且开始对汞灯进行预热八分钟。”
预热过程中，整个基地都显得安静无比，只有光刻机在运转的声音。
虽然基地很凉快，但楚辞发现，很多人此时已经额头冒汗，双拳紧握，就连他自己都有些紧张，更别说别人了。
“预热结束，打开有面板上的开关，曝光系统已经自动移动到硅片上方，曝光开始！”
八分钟后，随着研究人员的声音落下，光刻机开始运转起来，对着硅片进行曝光处理。
时间一点点过去，因为是测试，需要大量的样品，所以曝光的硅片数量也很多。